20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
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光學(xué)鏡片用等離子清洗設(shè)備處理是啥原理： 大多數(shù)隱形眼鏡都是由有機(jī)玻璃制成的，它具有折射率高、硬度合適、親和力好等優(yōu)點(diǎn)，但具有親水性較差的缺點(diǎn)，長(zhǎng)期佩戴會(huì)引起眼部不適，對(duì)O2親水...
發(fā)布時(shí)間:2023-02-16
UHMWPE纖維通過(guò)plasma設(shè)備引入極性或活性基團(tuán)增加表面活性： UHMWPE纖維的表面改性需要通過(guò)斷開(kāi)或激活纖維表面的舊化學(xué)鍵并形成新的化學(xué)鍵才能實(shí)現(xiàn)，這就首先需要低溫等離子體中的各類(lèi)粒...
發(fā)布時(shí)間:2023-02-13
等離子體發(fā)生器清洗的硅油光致發(fā)光性能影響： 顯視和發(fā)光技術(shù)的發(fā)展促使應(yīng)用于光源的白光發(fā)射材料得以密切關(guān)注。近年來(lái)，大家發(fā)現(xiàn)非晶Si:C:0:H材料的光致發(fā)光PL)可以覆蓋350~800nm的光譜...
發(fā)布時(shí)間:2023-02-10
有機(jī)材料crf電漿清洗機(jī)是否有清洗的效果：crf電漿清洗機(jī)活化工藝有著如下4點(diǎn)：①屬干式工藝，達(dá)到當(dāng)下節(jié)能、環(huán)保的需要；②對(duì)所處理材料無(wú)特別要求，有著普遍適用性；③加工時(shí)間短，僅有幾秒至幾分鐘；④只對(duì)材料表...
發(fā)布時(shí)間:2023-02-08
使用CRF電漿清洗機(jī)日常成本和應(yīng)用：一、CRF-電漿清洗機(jī)的成本 在各種類(lèi)型材料表面清洗系統(tǒng)中，等離子體清洗設(shè)備的成本也比較低，而且設(shè)備每年的維護(hù)費(fèi)用也可以忽略不計(jì)。因此，電漿清洗機(jī)...
發(fā)布時(shí)間:2023-02-06
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