在真空室引入等離子體刻蝕機(jī)時，氣體要保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定：
        將等離子體刻蝕機(jī)中引入真空，將氣體導(dǎo)入真空室，保持腔內(nèi)壓力穩(wěn)定。依據(jù)清潔材料的不同，可采用氧、氬、氫、氮、氟等多種氣體分貝。將高頻率電壓置于真空室的電極與接地裝置之間，使氣體被擊穿，并經(jīng)電弧放電后形成等離子化，形成等離子體。使被處理工件在真空室內(nèi)所形成的等離子體完全覆蓋并開始清洗操作，一般的清洗處理可持續(xù)數(shù)十秒至數(shù)十分鐘。清潔結(jié)束后，斷開電源，用真空泵吸氣及氣化污垢排出。

        等離子體刻蝕機(jī)的另一項功能是清洗完畢后，其表面已經(jīng)完全干透。對物體表面進(jìn)行化學(xué)刻蝕處理后，往往會形成許多新的活性基團(tuán)，使物體表面發(fā)生“活(化)”并改變其性能，可極大地提高物體表面的滲透性和粘附性，這對于很多材料來說非常重要。所以等離子體清洗具有很多用溶劑進(jìn)行的濕式清洗無法比擬的優(yōu)點(diǎn)。相對于濕法清洗而言，等離子體刻蝕機(jī)的優(yōu)點(diǎn)主要有以下幾點(diǎn)：
       經(jīng)等離子體刻蝕機(jī)清洗后，被清潔的物體已非常干燥，無需再次進(jìn)行干燥處理即可送到下道工序。無三氯乙烷等有害污染物，是一種有利于環(huán)境保護(hù)的綠色清潔方式，使用電磁波范疇高頻率形成的等離子體有別于激光等直射光線，其指向性不強(qiáng)，因而能深入到物體內(nèi)部，完成清理工作，從而完成清理工作，因此，無需過分考慮被清潔物體形狀的影響。清潔效果(果)對于這些難洗部位的清潔效果較好，與氟利昂清潔的效(果)相當(dāng)。該清洗流程可在數(shù)分鐘內(nèi)完成，具有較高的產(chǎn)率。