CRF根據(jù)客戶的需求，還可以定制真空等離子清洗機：
        真空等離子體清洗機是一類利用等離子體無法達(dá)到傳統(tǒng)清洗方法的新型高科技技術(shù)。等離子體是一類物質(zhì)狀態(tài)，也稱為第四種狀態(tài)。在氣體中添加足夠的能量將其分離為等離子體狀態(tài)。在等離子體中“活性”成分包括:離子、電子、活基、刺激性(亞穩(wěn)態(tài))和光子。真空等離子體清洗機利用這種活性成分的特性來處理樣品表面，從而達(dá)到清洗的目的。

       真空等離子體清洗機是一類根據(jù)工業(yè)用戶和研發(fā)用戶的需要而廣泛使用的等離子體表面處理設(shè)備。適用于等離子體清洗、激活、蝕刻等應(yīng)用。該設(shè)備可在惡劣環(huán)境下穩(wěn)定運行，達(dá)到高均勻性的使用效果。低溫等離子體設(shè)備是一類小型廉價的桌面等離子體清洗機，配有鉸鏈門、觀察窗和精密控制測量閥，可用于納米表面清洗和小樣品激活。
       真空等離子體清洗機采用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定的真空負(fù)壓下，氣體通過電能轉(zhuǎn)化為高活性氣體等離子體，氣體等離子體輕輕清潔固體樣品表面，導(dǎo)致分子結(jié)構(gòu)變化，實現(xiàn)樣品表面有機污染物超級清潔，在很短的時間內(nèi)，有機污染物通過真空泵干燥，其清潔能力可達(dá)到分子水平。在某些情況下，樣品的表面特性也會發(fā)生變化。等離子體清洗機是一類環(huán)保的機械設(shè)備，主要用于清洗電子部件、物體表面腐蝕、等離子體涂層、等離子體涂層、等離子體灰化、表面改性等，功能強大。
        真空等離子體清洗機以氣體為清洗介質(zhì)，可有效避免液體清洗介質(zhì)對被清洗物體造成的二次污染。設(shè)備外部真空泵。工作時，清潔腔內(nèi)的等離子體，輕輕清潔被清潔物體的表面。清洗時間短可使污染物被真空泵帶走，清洗程度可達(dá)到分子水平。