CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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真空等離子清洗機(jī)通過(guò)兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)

      真空等離子清洗機(jī)通過(guò)兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng),用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體越來(lái)越稀薄,分子間距及分子或自由運(yùn)動(dòng)距離也越來(lái)越長(zhǎng),受磁場(chǎng)作用,發(fā)生碰撞而形成等離子體,同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光,等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)空間運(yùn)動(dòng),并轟擊被處理物體表面,達(dá)到去除表面油污以及表面氧化物,灰化表面有(機(jī))物,以及其它化學(xué)物質(zhì),從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕效(果),經(jīng)過(guò)等離子處理工藝可以實(shí)現(xiàn)有選擇的表面改性。

真空等離子清洗機(jī)

      等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。從通常的能量排布:氣體>液體>固體的角度來(lái)說(shuō),等離子的能量比氣體更高,能表現(xiàn)出一般氣體所不具有的特性,所以也被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。當(dāng)氣體電離生成電子正離子一般在段時(shí)間內(nèi)發(fā)生結(jié)合,回到中性分子狀態(tài),這個(gè)過(guò)程產(chǎn)生的電子、離子的一部分能量以電磁波等不同形式消耗,在分子離解時(shí)常生成自由基,生成的電子結(jié)合中性原子,分子形成負(fù)離子。因此,整個(gè)等離子體是電子正負(fù)離子激發(fā)態(tài)原子,原子以及自由基的混合狀態(tài)。因?yàn)楦鞣N化學(xué)反應(yīng)都是在高激發(fā)態(tài)下進(jìn)行的,與經(jīng)典的化學(xué)反應(yīng)完(全)不同。這樣使等離子體的原子或分子的本性通常都發(fā)生改變,即使是較穩(wěn)定的惰性氣體也會(huì)變得具有很強(qiáng)的化學(xué)活潑性。
      真空等離子清洗機(jī)由真空發(fā)生系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、等離子發(fā)生器、真空腔休、機(jī)械等幾個(gè)部分組成,可以根據(jù)客戶的特殊要求定制符合客戶需要的真空系統(tǒng),真空室。容易采用數(shù)控技術(shù),自動(dòng)化程度高;具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。

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