CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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低溫等離子的歷史由來和參數(shù)介紹

低溫等離子的歷史由來和參數(shù)介紹:
       低溫等離子清潔的運(yùn)用始于20世紀(jì)初。伴隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)全產(chǎn)業(yè)鏈的迅速發(fā)展趨向,低溫等離子清潔適用于合金材料、半導(dǎo)體器件、氧化成分、有機(jī)化合物和絕大部分高分子化合物材料的多種材料類別,并可滿足多樣化構(gòu)造的清潔。等離子清潔的過程中不用任何的有機(jī)化學(xué)溶液,具備污染小、清潔質(zhì)量好的優(yōu)勢(shì)。廣泛運(yùn)用于半導(dǎo)體制造、微電子包裝、光學(xué)工業(yè)、機(jī)械航天工業(yè)、精密儀器等領(lǐng)域。

      低溫等離子是1種常見的固體、液體、氣體以外的第四種成分,主要由電子、正離子、自由基、光子等中性粒子組成,其正負(fù)電荷總是相等的,因此被稱為等離子。微波等離子由輸出功率為2.45GHz的微波激發(fā)工序氣體放電,在正負(fù)極磁場(chǎng)作用下的諧振腔內(nèi)產(chǎn)生等離子。諧振腔位于反應(yīng)倉(cāng)旁邊,磁控管連接到微波發(fā)生器。由于整個(gè)放電的過程不需要正負(fù)電極,自偏壓極小,從根本上避免了靜電放電損傷。
       常用低溫等離子電源激發(fā)頻率有3種:四十kHz等離子為超聲等離子,物理反應(yīng);13.56mHz等離子為射頻等離子,物理化學(xué)反應(yīng);2.45gHz等離子為微波等離子,離子濃度最高,化學(xué)反應(yīng),典型工序?yàn)檠鯕饣驓涞入x子工序。通過化學(xué)反應(yīng),氧等離子可以將非揮發(fā)性有機(jī)化合物變成揮發(fā)性CO2和水蒸氣,去除污垢,清潔表面;氫等離子可以通過化學(xué)反應(yīng)去除金屬表面氧化層,清潔金屬表面。

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