CRF plasma 等離子清洗機

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crf等離子清洗機解決粘片表面沾污問題

crf等離子清洗機解決粘片表面沾污問題:
       在粘接過程中,由于粘合劑含有水,在烘箱烘烤后,包裝管殼內(nèi)的引線經(jīng)常出現(xiàn)黃色附著物,主要是由水蒸氣揮發(fā)性微量膠的有機成分形成的。這種情況通常被稱作粘接過程。在粘接過程中,由于粘合劑含有水,在烘箱烘烤后,包裝管殼內(nèi)的引線經(jīng)常出現(xiàn)黃色附著物,這主要是由水蒸氣揮發(fā)性微量膠的有機成分形成的。這種情況通常被稱作粘接過程中的粘接污染。
粘接過程中的粘污。

等離子清洗機

       為了分析粘接過程,從粘接過程開始,粘接過程粘接工藝流程為點膠→貼片→烘烤(固化)。有可能導致粘接的環(huán)節(jié)是點膠和烘烤。點膠主要是由于操作或設置不當造成的粘合劑粘在管殼或導線上形成的粘合劑,而烘烤是指在烘烤粘合劑中的水分時,揮發(fā)性水蒸氣攜帶的粘合劑有機物吸入管殼或導線,形成粘合劑污染。現(xiàn)有的包裝工藝是在粘合劑前清洗空管殼,粘合劑后和鍵合前未清洗,使粘合劑過程中的粘合劑污染無法有效去除。當粘接工藝控制良好時,對后續(xù)鍵合工藝的影響較小,難以檢測到電路的影響;粘接工藝控制不好,非常容易出現(xiàn)導線粘接,非常容易脫鍵,電路在抗沖擊或老化篩選實驗中非常容易損壞。
引線粘污處理技術。
        目前,引線粘合劑的處理方法主要采用紫外線清洗或crf等離子清洗機清洗,兩者在引線清洗中都有自己的適用性,具體的選擇需要根據(jù)具體的工藝來確定。由于濕清洗會帶來環(huán)境污染和清洗后的二次粘合劑污染,干清洗在這方面具有明顯的優(yōu)勢。等離子體中活性粒子的活化作用可以有效地去除物體表面的污垢,從而達到清洗的目的,即crf等離子清洗機清洗。等離子體是等離子體清洗機的必要條件。等離子體吸附在被清洗物體表面,被清洗物體與等離子體發(fā)生反應,產(chǎn)生新的分子。等離子體體驗進一步促進新分子分析形成氣態(tài)分子,最終去除表面的粘接物。crf等離子清洗機的最大特點是可以處理不同的粘接物,可以清洗金屬、氧化物和大多數(shù)有機材料,并可以實現(xiàn)各種復雜的結構。

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