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絕緣處理和半導(dǎo)體器件中crf等離子體表面處理儀的應(yīng)用

子絕緣處理和半導(dǎo)體器件中crf等離子體表面處理儀的應(yīng)用:
一、絕緣處理—crf等離子體表面處理儀潤飾硅膠表層,增強了材料的兼容性
    等離子體表面處理儀設(shè)備作業(yè)時,電荷首先在半導(dǎo)體與絕緣接觸面上積累和傳遞,為了保證柵電極與有機化學半導(dǎo)體之間的柵極漏電流較小,要求絕緣數(shù)據(jù)有較高的電阻,也就是要求絕緣性較好。現(xiàn)階段常用的絕緣數(shù)據(jù)首先是無機絕緣,如氧化層等,在此期間,二氧化硅是一般用在有機化學場效應(yīng)晶體管中的絕緣,但是由于二氧化硅表層存在某些缺陷,加之其與有機化學半導(dǎo)體數(shù)據(jù)的兼容性較差。因此需要用等離子體對硅片表層進行潤飾,經(jīng)測試,頻率13.56MHz的真空系列處理效果佳。

等離子體表面處理儀


二、有機化學半導(dǎo)體器件—crf等離子體表面處理儀活性改性處理,增強擴散系數(shù)
    現(xiàn)階段,有機化學半導(dǎo)體器件主要是分成兩種:小分子材料和聚合物材料。有機化學半導(dǎo)體按其溝道自由電子視點的不同可分成P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體。在P型半導(dǎo)體中,大部分的自由電子是空穴構(gòu)造,而N型半導(dǎo)體的自由電子是電子結(jié)構(gòu)。除必要的穩(wěn)定性外,P型半導(dǎo)體還具備下列條件:
(1)HOMO能級高,能與電極形成歐姆接觸,使空穴能順利注入;
(2)有較強的給電子能力。
常見的有:稠環(huán)芳烴,如五苯(Pentacene)、紅熒烯(Rubrene);聚合物,如聚合物(3-己基噻命),可以通過等離子體表層處理器激活和修飾有機化學半導(dǎo)體。
選用等離子體表面處理儀潤飾絕緣表層,使有機材料的堆積更為勻稱、平整,從而大大提高了器件的擴散系數(shù),改進了器件的功能,等離體表面處理儀對有機化學半導(dǎo)體器件的活性、改性作用,使器件的性能得到明顯改善。


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