CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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這4個(gè)層面劃分了大氣與真空plasma的應(yīng)用領(lǐng)域

大氣式plasma和真空plasma等離子清洗機(jī)在下述層面的差異:
1.清洗方式不同
大氣式等離子清洗機(jī)的噴嘴直射正離子,通過噴嘴的結(jié)構(gòu)間接改變了正離子的運(yùn)動(dòng)方向(直接面對(duì)被處理的材料)。因而,大氣等離子體只能對(duì)1個(gè)表層做好處理。
在真空plasma等離子清洗機(jī)的工作上,腔內(nèi)的正離子不是定向的,只要材料暴露在腔內(nèi),無論哪一面、哪一角都能清洗。

plasma

2.使用氣體層面不同
大氣plasma等離子清洗機(jī)工作時(shí)只需接入壓縮空氣,當(dāng)然想效(效果)更好可以直接接入氮?dú)狻4髿鈖lasma等離子體清洗機(jī)通入氣體的目的主要是活性化、增加侵蝕性。在應(yīng)用層面比較有局限。
真空plasma等離子清洗機(jī)在氣體上有更多的選擇,可以選擇多種氣體來匹配材料表層氧化物和納米級(jí)微生物的去除。真空plasma等離子體清洗機(jī)進(jìn)入氣體的目的是提高蝕刻效果(效果),去除污染物,去除有機(jī)物,提高潤(rùn)濕性等。很明顯,真空等離子清洗工藝的選擇范圍更廣,將得到更廣泛的應(yīng)用。
3.使用溫度不同
雖然空氣中的plasma等離子清洗機(jī)雖然在處理材料幾秒后的溫度在60°-75°之間,但是這一數(shù)據(jù)是根據(jù)噴槍距離材料15mm,功率在500W,與三軸速度120mm/s相匹配。當(dāng)然,電力、接觸時(shí)間和處理高度會(huì)影響溫度。特別要注意的是,大氣plasma等離子清洗機(jī)噴槍工作時(shí)噴出的火焰分為內(nèi)火焰和外火焰,我們清洗時(shí)用外火焰清洗,內(nèi)火焰在噴嘴中,從外面看不到。但若長(zhǎng)時(shí)間對(duì)某個(gè)點(diǎn)噴出“火焰”而不移動(dòng),則容易使表層產(chǎn)生灼燒。因而,大氣等離子體的溫度必須在實(shí)際情況下測(cè)定具體的數(shù)值。
真空plasma型等離子清洗機(jī)并不復(fù)雜,根據(jù)電源頻率,以40KHz和13.56MHz為例。通常,材料放入室內(nèi)工作,頻率為40KHz,一般溫度為65°下述,機(jī)械內(nèi)部設(shè)有強(qiáng)冷風(fēng)扇,處理時(shí)間不長(zhǎng),材料表面溫度與室溫一致。頻率為13.56MHz的話,通常在30°下述。因而處理一些容易受熱變形的材料,真空plasma等離子清洗機(jī)是再合適不過了。
4.正離子產(chǎn)生條件不同
大氣plasma等離子清洗機(jī)依靠接入氣體,氣壓在0.2mpa左右才能產(chǎn)生正離子。
真空plasma型等離子清洗機(jī)依賴真空泵,在產(chǎn)生正離子之前,即使不接入(何)外部氣體,也必須將室內(nèi)真空度提高到25pa下述才能產(chǎn)生正離子。

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