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真空等離子設備刻蝕處理后NGTi基TIO2薄膜使其親水性增強

真空等離子設備刻蝕處理后NGTi基TIO2薄膜使其親水性增強:
        納米晶體鈦(NGT1)有著無毒、比強度大、低彈性模量良好的生物活性等優(yōu)點,成為生物材料領域的一個研究熱點。TIO2薄膜是一類優(yōu)質生物活性材質,近些年漸漸代替羥基磷灰石涂層,后者因與金屬植入材質結合力不良而限制其應用。
粗晶粒鈦基TIO2薄膜相比,TIO2薄膜有著更加優(yōu)異的生物活性和膜/基界面結合力,并且室溫下在NGTi表面很容易獲得單一金紅石型TIO2薄膜。提升NGTI基金紅石型TIO2薄膜的生物活性,擴大NGTI/TIO2復合材料在人工關節(jié)和骨創(chuàng)傷產品等領域的應用前景具有重要意義。

真空等離子設備

        高表面能的TIO2薄膜可以促進成骨細胞的發(fā)育。提升TIO2薄膜表面能的方法有離子摻雜紫外光照射、Ar等離子體清洗機等離子體表面改性等。Ar等離子體清洗機等離子體處理后,NGTi基TIO2薄膜變得非常致密光滑和平整,并且出現(xiàn)納米級微坑。室溫下NGTi表面能獲得大量結晶狀金紅石型TiO2顆粒,而在普通基材(如玻璃硅片粗晶粒金屬基)表面用磁控濺射技術制備的TiO2薄膜很難觀察到這一現(xiàn)象。
        真空等離子設備對薄膜有著轟擊刻飾和清洗效果,這使得TIO2薄膜表層的非連續(xù)和非致密的顆粒被Ar真空等離子設備清洗除去,留下平整致密和光滑的薄膜表面。Ar等離子體有著轟擊刻蝕作用,可徹底地除去試樣表面的有機污染物,因而提升T1O2薄膜的表面能;Ar等離子體處理后,TIO2薄膜表面的T14+減少并轉化為T3+,將產生電子空穴對,空穴與金紅石晶面的橋氧發(fā)生反應,產生氧空位。
       真空等離子設備處理后TIO2薄膜會引進氧空位,水分子會中和這些氧空位,產生OH基團,遂提升了TIO2薄膜的親水性。Ar等離子體處理顯著改善NGT基TiO2薄膜的親水性。

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