CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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CRF_誠(chéng)峰品牌等離子設(shè)備的原理和應(yīng)用領(lǐng)域都有哪些呢?

CRF_誠(chéng)峰品牌等離子設(shè)備的原理和應(yīng)用領(lǐng)域都有哪些呢?
       CRF誠(chéng)峰品牌等離子設(shè)備中存在著具有一定能量分布的電子、離子和中性微粒,當(dāng)與材料表面碰撞時(shí),它們自身的能量就會(huì)轉(zhuǎn)移到材料表面的分子和原子,形成一系列的物理化學(xué)過(guò)程。有些顆粒也會(huì)在材料表面產(chǎn)生碰撞等影響材料的表面性質(zhì)。

       CRF誠(chéng)峰品牌等離子設(shè)備中的等離子體接觸高能量物質(zhì)時(shí),材料表面會(huì)分解聚合物,產(chǎn)生自由基。等離子體中包含高水平的紫外輻射,并能在塑料或聚四氟乙烯表面產(chǎn)生額外的自由基。由于物質(zhì)的不穩(wěn)定性,自由基可以迅速地和物質(zhì)自身反應(yīng)。這樣,材料表面就可以形成穩(wěn)定的共價(jià)鍵,從而可以打印或粘合在一起。目前CRF誠(chéng)峰品牌在電子工業(yè)、手機(jī)制造、汽車制造、紡織、生物醫(yī)藥、新能源和航天航空等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。比如電子產(chǎn)品、PC塑料框架的粘接前處理、外殼等部件表面;PCB表面除膠除污清洗,鏡片粘接前處理;電線電纜噴碼前處理;等離子體清洗技術(shù)的關(guān)鍵在于其應(yīng)用,主要依靠高溫、高頻、高能等外部條件,是一種電中性、高能、完全或部分離子氣體物質(zhì)。等離子體的能量大約是幾十個(gè)電子伏特,其中所含的離子、電子、自由基等活性粒子和紫外輻射線,都能輕易地與固體表面的污染物分子發(fā)生反應(yīng)而分離出來(lái),從而達(dá)到清潔的目的。
       CRF誠(chéng)峰品牌等離子設(shè)備是一種干法,它利用電能催化反應(yīng),能在較低的溫度范圍內(nèi)提供較低的環(huán)境,排除濕法化學(xué)清洗帶來(lái)的危害和廢液,安全、可靠、環(huán)保,能有效地清除殘余于材料表面的有機(jī)污染物,保證材料表面和本體不受影響,是目前被認(rèn)為的一種主要替代技術(shù)。CRF誠(chéng)峰品牌等離子設(shè)備具有工藝簡(jiǎn)單、高效節(jié)能、安全環(huán)保等顯著優(yōu)點(diǎn)。

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