CRF plasma 等離子清洗機

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玻璃手機屏的那些難題輕而易舉被等離子體解決掉了

       近年來國(際)上名(牌)手機均以玻璃為面板,手機屏普遍都會在其表面進行鍍膜處理,其作用不同,有些是為提(升)光透過率;有些是會刷AF膜(別名防指紋膜,實際上其防指紋的實際效(果)大多數一般)以提(升)疏水性及疏油性。有的原材料自身表面光潔,有的原材料表面有空氣污染物,易造成難以在其表面進行鍍膜處理,或是表面鍍膜后易掉落,如同在銹鐵上刷油漆易脫落是一個樣子的。這時就需要提(升)產品表面的粗糙度及清(除)其表面雜質才可以進行優質的鍍膜處理,就如同我們要用打磨砂紙把鐵銹去除掉再刷漆處理一樣。但是我們不太可能使用砂紙把手機屏擦擦拭一遍,這樣手機屏便會刮花了。傳統的清洗方法是先用洗滌劑刷洗, 再用酸液、堿液與有(機)溶劑超聲波清洗, 工序復雜, 費時費工, 且造成污染。 低溫等離子體空間富集的離子、電子、激發態原子、分子及自由基均為活性粒子, 易于和材料表面發生反應因而在滅(菌)表面改性薄膜沉積刻蝕加工器件清洗等領域得到廣泛應用。

等離子體

       潤滑油和硬脂酸是手機玻璃表面板常見的沾污物質, 污染后玻璃表面對水的接觸角增加, 影響到離子交換。傳統的清洗方法工藝復雜且有污染。 手機面板等離子清洗機, 結構簡單, 不需要抽真空, 室溫下即可進行清洗, 所產生的激發態的氧原子比一般氧原子更具有活性, 可將污染的潤滑油和硬脂酸中的碳氫化合物進行氧化, 生成二氧化碳和水。等離子體射流同時還具有(機)械沖擊力, 起到了刷洗作用, 使玻璃表面污染物迅速脫離玻璃表面, 達到高(效)清洗的目的。
       等離子清洗機對玻璃表面的清洗, 除了機械作用外, 更主要是活性氧的化學作用, 等離子中激發態的Ar*, 使氧分子激發為激發態氧原子高能量電子撞擊氧分子使其分解, 形成激發態氧原子沾污的潤滑油與硬脂酸主要成分為碳氫化合物, 這些碳氫化合物為活性氧所氧化, 生成二氧化碳和水從而將油脂從玻璃表面上除去。
       玻璃手機面板在化學鋼化前的清洗過程是很復雜的。通過針狀電極預電離產生的非平衡Ar/O2大氣壓等離子射流用作清洗過程是簡便的。用接觸角儀測定了玻璃面板沾污潤滑油和硬脂酸對水的接觸角。在等離子體射流清洗一段時間后對水的接觸角顯著地降(低)。掃描電鏡的觀察也驗證了清洗的效(果)。
       等離子(plasma)經過反應可以形成自由基清(除)產品表面的有(機)污染物,進行產品表面活(化),目的是提(升)產品表面的附著力及表面粘接的可靠性及持久性。又可以起到清潔產品表面,提(升)表面親和性(水滴角下降),增加鍍膜體的附著力等效(果)。而另一方面,用壓縮空氣作等離子清洗機的氣源,其反應出來的等離子體會有眾多氧離子及自由基并在產品表面進行沉積,假如快速將等離子處理后的產品進行鍍膜或噴涂處理,氧離子便會與產品及噴鍍材料產生化學鍵合,這類鍵合反應能夠進一步提高分子結構間的貼合強度,使得膜層難以脫離掉落。而且等離子表面處理也是一種微觀處理方式,一般處理深度可達到納(米)到微米級,僅憑肉眼難以見到產品處理前后的轉變,因此等離子清洗機被廣泛運用于手機鍍膜及新型材料等制造行業。


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