誠(chéng)峰智造的四類(lèi)等離子體表面處理儀都有哪些不同點(diǎn)：
1、crf真空等離子體表面處理儀技術(shù)：
這類(lèi)等離子體是在全封閉真空過(guò)程中產(chǎn)生的(10-3到10-9bar)。相對(duì)于常壓情況，單位體積內(nèi)的粒子數(shù)更少，從而增加了粒子自由程長(zhǎng)度，相對(duì)減少了碰撞過(guò)程。最終是，等離子體能量衰減的趨勢(shì)減弱，并能在空間中更廣泛地傳播。為了制造真空腔，需要使用強(qiáng)大的氣泵。真空等離子技術(shù)沒(méi)有聯(lián)動(dòng)連接功能。

2、高電壓等離子體表面處理儀技術(shù)：
高電壓等離子體是由專(zhuān)用氣體放電管產(chǎn)生。這類(lèi)等離子體在表面處理中并不重要。
3、電暈處理技術(shù)：
電暈處理技術(shù)是一種采用高壓的物理方法，主要用于薄膜處理。電暈預(yù)處理的缺點(diǎn)是，其表面活化能力較低，處理后表面效果有時(shí)不夠均勻。還可以對(duì)膜的反面進(jìn)行處理，有時(shí)根據(jù)工藝要求可以避免。另外，經(jīng)電暈處理后獲得的表面張力不能長(zhǎng)期保持穩(wěn)定，處理后的產(chǎn)品往往只能存放有限的時(shí)間。
4、常壓等離子體表面處理儀技術(shù)：
常壓等離子處理機(jī)技術(shù)是在大氣壓條件下產(chǎn)生的等離子體，常壓型等離子體處理技術(shù)成本低，性能優(yōu)良，可作為真空等離子體和電暈等離子體的工藝替代和工藝改進(jìn)，得到廣泛應(yīng)用。常壓型等離子體技術(shù)的一大優(yōu)點(diǎn)是其聯(lián)機(jī)綜合性能，該技術(shù)可以平穩(wěn)地集成到現(xiàn)有的生產(chǎn)系統(tǒng)中，作為工藝準(zhǔn)則。